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中芯国际7nm

发布时间:2021-07-22 13:30:48

㈠ 中芯将量产7nm芯片,这是否意味着国产芯片迎来了转机

台积电因为政策限制的原因已经提前制出了很多7纳米的芯片,这些芯片对于手机市场的影响是很大的,因为台积电确实在芯片代工制造领域算是非常尖端的,并且影响力很大的企业,虽然未来会逐渐出现5纳米乃至说更高精度的芯片,但是注定了未来相当长的一段时间,是以7纳米左右的这个芯片为主的。



台积电虽然是一个芯片代工企业,但是人家掌握的核心技术以及较为复杂的控股结构,都能够保证人家在未来的市场之中占领一席之地,高通苹果可能会和台积电产生竞争,但是最根本的人家的生存仍然不成问题,可能利润空间会受到一定的影响,但是未来到底如何,前景还是没问题的。

㈡ 中芯国际宣布没有光刻机也能批量生产7nm芯片!-工业电子市场网

7nm是可以用DUV而不需要EUV做出来的。
重点不在有DUV,DUV浸润式早就有了。而在于N+1相当于7nm低成本技术的开发。
这是中芯国际技术上的巨大飞跃进步。因为这等于甩过了GF和联电,从此进入晶圆代工技术上第三名的阵营。
2018年5月,中芯国际下订单向荷兰ASML公司购买EUV光刻机。但美国政府千方百计进行阻止封杀这笔交易。2019 年 美国国务卿蓬佩奥曾直接劝说荷兰首相。荷兰政府目前尚未颁发许可证,ASML目前无法出货给中芯。
中芯国际FinFET N+1 和 N+2 制程都不需要用到 EUV 光刻机。台积电第一代7nm是用DUV+多重曝光技术做的。所谓多重曝光,简单说上一次曝光留下的介质层(SiO2\Si3N4)是下一次曝光的遮挡层的一部分。曝光次数越多,光罩成本越高,反复刻蚀良率越不好控制。EUV光刻机主要为7nm以下工艺准备,包括5nm,3nm。采购EUV光刻机来做7nm,主要是出于成本和良率的考虑,而非必须要用EUV才能做7nm。
现阶段对于中芯国际而言,买一台EUV象征意义大于实际意义。EUV光刻机花费甚巨,1.2亿美元已经超出中芯2018全年净利润。一台不能量产,设备每年要撒大把的钱去维护保养,后续费用和产线配套投入更可观。

㈢ 如何看当初大陆唯一一台7nm光刻机被抵押,千亿级芯片项目停摆

高薪挖人爆表,也将这家神奇的公司暴露在公众视野和阳光下,要么是明星,要么是冲上沙滩的那条鱼。是福还是祸,立场不同、观点不同,还真不好说。还原真相总是好的,尽管真相有时很残酷。

本质上这个芯片自主供给率低,反而说明你做的工业产品、门类够多,所以你才需要大量进口。所以这个70%的比率,估计很难达到。真要达到了,估计可以相当于一个国家是一个可以内循环的小世界了。

骗减税思路很简单啊,比如一家中型以上软件公司,资产规模上过亿,营业收入过亿,按照正常来说他的税负是高新企业所得税15%,但事实上他可以拆分自己的专利项目,比如他做了五个子模块,都有一定创新程度,然后去开五家公司,把五个专利分别放到这五家里面,五家公司的资产规模控制在千万左右,营业收入同母公司结算,控制在千万左右,员工名义上划分到各家公司,每家控制在百人以内,这样五家公司就能申报科技型中小企业,研发费用除了原先按50%加计扣除外,还能再加计扣除75%;无形资产可以按照175%摊销。实际上公司通过纸面上的操作,可以把税负率降到10%。

用行政力量引导科技研发,必然会导致各种荒唐事。最后纳税人的钱浪费了,技术没搞出来,还挤压了大量真正做事人的资源。想在高科技领域有所发展,一分钱也别补贴,免税就行。要相信市场的力量和国人的智慧,而不是迷信行政干预和所谓的中国模式。

㈣ 芯片的7nm ,5nm是指什么这个指标为什么能如此重要

我们平时所讲5nm或者7nm说的是晶体管的宽度(也叫线宽),要想做到纳米级的电路,工艺难度是很难的。在制造晶体管的国产中涉及到光刻、刻蚀等复杂的加工工艺。台积电就是从阿斯麦尔(ASML)采购了可以加工5nmEUV光刻工艺的光刻机,而中芯国际因为美国的封锁,从阿斯麦尔(ASML)进口光刻机受阻,所以接下来的5nm工艺推进暂时会遇到很多的困难。

毕竟光刻机是很尖端的科技,ASML虽然是荷兰的公司,但是背后是整个欧美产业链的高端科技的加持。而中芯国际如果面临封锁,那么很多产业都要逐个突破,那难度可想而至知。

(4)中芯国际7nm扩展阅读

芯片领域从10nm过渡到7nm,进而逐渐迈向5nm,每一次进步都伴随着芯片性能的极大提升,据计算,芯片每前进1nm,性能将提升30%-60%,尺寸越小意味着在相同的面积之内可以储存更多的晶体管,从而达到快的运行速度,进而也可以降低能耗。

就难华为麒麟处理器来讲吧,麒麟970还是10nm工艺,到了麒麟980时已经是7nm工艺制程,其晶体管数量从970版本的55亿上升至69亿,增加了25.5%,晶体管数量的增加直接促进了CPU、GPU和NPU性能的提升,从跑分上看,CPU性能提升50%,GPU性能提高100%,NPU性能提升了一倍,可见10nm跟7nm工艺的差距之大,这也正是芯片领域追求更小晶体管的原因。

集成电路对于离散晶体管有两个主要优势:成本和性能。成本低是由于芯片把所有的组件通过照相平版技术,作为一个单位印刷,而不是在一个时间只制作一个晶体管。性能高是由于组件快速开关,消耗更低能量,因为组件很小且彼此靠近。2006年,芯片面积从几平方毫米到350 mm²,每mm²可以达到一百万个晶体管。

㈤ 离开美国,我国两年内可以造出7nm“中国芯”吗

二月底,清华大学正式宣布,已经发现一种可用于EUV光刻机的新光源,加速了国内EUV光刻机的研发进程。值得一提的是,EUV光刻机最核心的技术就是紫极外光技术,只要我们掌握了这种技术,再寻找到可以替代来自美企用于EUV光刻机的核心元器件,我们便可以制造出EUV光刻机。届时,“中国芯”将迎来一个高速发展期。

㈥ 国内7nm功臣梁孟松将辞职离开中芯国际怎么回事

在中芯国际正式宣布迎回去年出走武汉弘芯的芯片界“大佬”蒋尚义之际,同时收到了芯片奇才梁孟松致董事会的信,信中提出自己将在蒋尚义正式任职后提交辞呈。


幸好,看梁孟松的信函满满的不舍和继续施展抱负的期待,所以,这封信并不是媒体所说的辞职信,不是辞职信!不是辞职信!不是辞职信!它所传递出的信息是:这事还有回旋余地。所以,接下来中芯国际的态度很重要,怎么处理好这两个技术大牛的关系和去留问题可能关系到中国芯片行业的未来!我只表达我的热切期待:梁孟松一定要留下!

㈦ 请问中国量产7nm芯片全部流程可以自己完成吗

这个不好说,新闻每天都在变,比如说台积电、中芯国际一会说支持华为一会说拒绝华为,这些公司都在看美国的脸色而已。美国制裁华为的真正目的限制华为5G设备而不是手机业务方面。

㈧ 7nm芯片即将量产,中芯国际再迎突破,国产芯片如何才能“走出去”

多跟外部的企业合作。如果可以的话,建议大家能直接把芯片做到其他的地区去,然后其他地区的人再进行分销,这样才能扩大市场。所以希望咱们能拓展渠道,以后更多的赚钱啊!

㈨ 中芯国际已经有了制造7nm的光刻机,这会对芯片产业造成什么样的影响

首先这个问题本身就错了,中芯国际并没有7nm光刻机。虽然中芯国际18年的时候花1.5亿美元从荷兰ASML定购了一台7nm EUV光刻机,但是由于第三方介入的原因,迟迟没有交货。所以中芯国际目前并没有制造7nm芯片的能力。所以现在中芯国际只能够大规模量产14nm FinFET芯片,而这种芯片在智能手机行业已经基本遭到淘汰了,不过在其它电子产品领域还有一定的需求量。


总而言之,由于咱们的高端半导体行业几乎是一片空白,高精尖的设备、软件和顶尖的人才几乎都处于匮乏状态,和欧美一些国家至少有10年的差距。所以就算国内企业从海外买回来最先进的光刻机,在很多方面也受制于人。即使未来中芯国际可以量产7nm甚至5nm芯片了,也就是给三星、台积电增加了一个竞争对手罢了,届时高端芯片的成本可能会下降,但不会对整个行业造成根本的影响。

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